Development of electroplated magnetic materials for MEMS (2003)
- Authors:
- Autor USP: SUMODJO, PAULO TENG AN - IQ
- Unidade: IQ
- DOI: 10.1016/s0304-8853(03)00264-6
- Subjects: ELETROQUÍMICA; ELETRODEPOSIÇÃO
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Magnetism and Magnetic Materials
- ISSN: 0304-8853
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 265, n. 2, p. 189-198, 2003
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
MYUNG, Nosang V. et al. Development of electroplated magnetic materials for MEMS. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, v. 265, n. 2, p. 189-198, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0304-8853(03)00264-6. Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Myung, N. V., Park, D. -Y., Yoo, B. -Y., & Sumodjo, P. T. A. (2003). Development of electroplated magnetic materials for MEMS. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 265( 2), 189-198. doi:10.1016/s0304-8853(03)00264-6 -
NLM
Myung NV, Park D-Y, Yoo B-Y, Sumodjo PTA. Development of electroplated magnetic materials for MEMS [Internet]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2003 ; 265( 2): 189-198.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0304-8853(03)00264-6 -
Vancouver
Myung NV, Park D-Y, Yoo B-Y, Sumodjo PTA. Development of electroplated magnetic materials for MEMS [Internet]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2003 ; 265( 2): 189-198.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0304-8853(03)00264-6 - Studies of electrodeposition kinetics of Co-Fe films on platinum
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0304-8853(03)00264-6 (Fonte: oaDOI API)
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