Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: ALVAREZ, INES PEREYRA DE - EP ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: 11 SIICUSP 2003 : resumos
- Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo (SIICUSP
-
ABNT
SILVA, Bárbara Dariano et al. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada. 2003, Anais.. São Paulo: USP, 2003. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm. Acesso em: 15 maio 2024. -
APA
Silva, B. D., Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2003). Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada. In 11 SIICUSP 2003 : resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm -
NLM
Silva BD, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada [Internet]. 11 SIICUSP 2003 : resumos. 2003 ;[citado 2024 maio 15 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm -
Vancouver
Silva BD, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada [Internet]. 11 SIICUSP 2003 : resumos. 2003 ;[citado 2024 maio 15 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm - Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados
- Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
- Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
- Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
- Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films
- Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico
- Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films
- Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications
- Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD
- Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
