Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; PEREYRA, INÊS - EP ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP
- Unidades: IF; EP
- Subjects: MATÉRIA CONDENSADA; INSTRUMENTAÇÃO (FÍSICA); LUZ
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Laboratório Nacional de Luz Sincrotron
- Publisher place: Campinas
- Date published: 2003
- Source:
- Título do periódico: Resumos
- Conference titles: Reunião Anual de Usuários do LNLS
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico. 2003, Anais.. Campinas: Laboratório Nacional de Luz Sincrotron, 2003. . Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2003). Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico. In Resumos. Campinas: Laboratório Nacional de Luz Sincrotron. -
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico. Resumos. 2003 ;[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico. Resumos. 2003 ;[citado 2024 abr. 20 ] - Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
- Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
- Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
- Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films
- Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films
- Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications
- Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD
- Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD
- Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados
- Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada
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