Oxygen-induced atomic desorptions in oxynitrides: Density functional calculations (2005)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, ANTONIO JOSE ROQUE DA - IF ; FAZZIO, ADALBERTO - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1103/physrevb.72.205316
- Subjects: MATÉRIA CONDENSADA; DIELÉTRICOS; ESTRUTURA ELETRÔNICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Physical Review B
- ISSN: 1098-0121
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 72, n. 20, p. 205316/1-205316/5, 2005
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
ORELLANA, Walter M e SILVA, Antonio Jose Roque da e FAZZIO, Adalberto. Oxygen-induced atomic desorptions in oxynitrides: Density functional calculations. Physical Review B, v. 72, n. 20, p. 205316/1-205316/5, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1103/physrevb.72.205316. Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Orellana, W. M., Silva, A. J. R. da, & Fazzio, A. (2005). Oxygen-induced atomic desorptions in oxynitrides: Density functional calculations. Physical Review B, 72( 20), 205316/1-205316/5. doi:10.1103/physrevb.72.205316 -
NLM
Orellana WM, Silva AJR da, Fazzio A. Oxygen-induced atomic desorptions in oxynitrides: Density functional calculations [Internet]. Physical Review B. 2005 ; 72( 20): 205316/1-205316/5.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1103/physrevb.72.205316 -
Vancouver
Orellana WM, Silva AJR da, Fazzio A. Oxygen-induced atomic desorptions in oxynitrides: Density functional calculations [Internet]. Physical Review B. 2005 ; 72( 20): 205316/1-205316/5.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1103/physrevb.72.205316 - Vacancy-mediated diffusion in disordered alloys: Ge self-diffusion in 'Si IND.1-X' 'Ge IND.X'
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Informações sobre o DOI: 10.1103/physrevb.72.205316 (Fonte: oaDOI API)
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