Degradação de fenol em solução aquosa pelo processo O3/UV em reator fotoquímico tubular com campo de radiação coaxial (2007)
- Authors:
- USP affiliated authors: NASCIMENTO, CLAUDIO AUGUSTO OLLER DO - EP ; TEIXEIRA, ANTONIO CARLOS SILVA COSTA - EP
- Unidade: EP
- Subjects: COMPOSTOS ORGÂNICOS; DEGRADAÇÃO AMBIENTAL; EFLUENTES (TRATAMENTO); FOTOQUÍMICA; OXIDAÇÃO (PROCESSOS); POLUIÇÃO DA ÁGUA (TRATAMENTO)
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: DEQ-UFSCAR
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 2007
- Source:
- Título do periódico: VII COBEQ-IC: programação e resumos,
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia Química em Iniciação Científica
-
ABNT
KOWALSKI, Tiago et al. Degradação de fenol em solução aquosa pelo processo O3/UV em reator fotoquímico tubular com campo de radiação coaxial. 2007, Anais.. São Carlos: DEQ-UFSCAR, 2007. Disponível em: http://www.ufscar.br/cobeqic07/pdf/poster_ii/pii61.pdf. Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Kowalski, T., Faustino, F. G., Nascimento, C. A. O. do, & Teixeira, A. C. S. C. (2007). Degradação de fenol em solução aquosa pelo processo O3/UV em reator fotoquímico tubular com campo de radiação coaxial. In VII COBEQ-IC: programação e resumos,. São Carlos: DEQ-UFSCAR. Recuperado de http://www.ufscar.br/cobeqic07/pdf/poster_ii/pii61.pdf -
NLM
Kowalski T, Faustino FG, Nascimento CAO do, Teixeira ACSC. Degradação de fenol em solução aquosa pelo processo O3/UV em reator fotoquímico tubular com campo de radiação coaxial [Internet]. VII COBEQ-IC: programação e resumos,. 2007 ;[citado 2024 abr. 20 ] Available from: http://www.ufscar.br/cobeqic07/pdf/poster_ii/pii61.pdf -
Vancouver
Kowalski T, Faustino FG, Nascimento CAO do, Teixeira ACSC. Degradação de fenol em solução aquosa pelo processo O3/UV em reator fotoquímico tubular com campo de radiação coaxial [Internet]. VII COBEQ-IC: programação e resumos,. 2007 ;[citado 2024 abr. 20 ] Available from: http://www.ufscar.br/cobeqic07/pdf/poster_ii/pii61.pdf - Degradação de compostos fenólicos do líquido da castanha de caju (LCC) contido em efluente industrial pelo processo foto-fenton
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