Optimization of a promising technology to degrade the persistent azo-dye (RO16) using boron doped diamond electrodes (2014)
- Authors:
- Autor USP: LANZA, MARCOS ROBERTO DE VASCONCELOS - IQSC
- Unidade: IQSC
- DOI: 10.17563/rbav.v33i1-2.977
- Assunto: ELETROQUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 2014
- Source:
- Título do periódico: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo
- ISSN: 1983-4047
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 33, n. 1-2, p. 23-32, 2014
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: bronze
-
ABNT
MIGLIORINI, Fernanda Lanzoni et al. Optimization of a promising technology to degrade the persistent azo-dye (RO16) using boron doped diamond electrodes. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 33, n. 1-2, p. 23-32, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.17563/rbav.v33i1-2.977. Acesso em: 02 jun. 2024. -
APA
Migliorini, F. L., Alegre, M. D., Alves, S. A., Baldan, M. R., Lanza, M. R. de V., & Ferreira, N. G. (2014). Optimization of a promising technology to degrade the persistent azo-dye (RO16) using boron doped diamond electrodes. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, 33( 1-2), 23-32. doi:10.17563/rbav.v33i1-2.977 -
NLM
Migliorini FL, Alegre MD, Alves SA, Baldan MR, Lanza MR de V, Ferreira NG. Optimization of a promising technology to degrade the persistent azo-dye (RO16) using boron doped diamond electrodes [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2014 ; 33( 1-2): 23-32.[citado 2024 jun. 02 ] Available from: https://doi.org/10.17563/rbav.v33i1-2.977 -
Vancouver
Migliorini FL, Alegre MD, Alves SA, Baldan MR, Lanza MR de V, Ferreira NG. Optimization of a promising technology to degrade the persistent azo-dye (RO16) using boron doped diamond electrodes [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2014 ; 33( 1-2): 23-32.[citado 2024 jun. 02 ] Available from: https://doi.org/10.17563/rbav.v33i1-2.977 - Eletrodegradação de Ponceau 2R utilizando ânodos dimensionalmente estáveis e Ti/Pt
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Informações sobre o DOI: 10.17563/rbav.v33i1-2.977 (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
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