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Artigo de periodico
A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications (2022)
Borges, M. H. R.; Nagay, B. E.; Costa, R. C.; Sacramento, C. M.; Ruiz, K. G.; Landers, R.; Van den Beucken, J. J. J. P.; Fortulan, Carlos Alberto ; Rangel, Elidiane Cipriano ; Cruz, N. C. da; Barão, V. A. R.
Source: Materials Today Chemistry. Unidade: EESC
Subjects: TITÂNIO, CORROSÃO, IMPLANTES DENTÁRIOS, TRATAMENTO DE SUPERFÍCIES, ENGENHARIA MECÂNICA
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ABNT
BORGES, M. H. R. et al. A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications. Materials Today Chemistry, v. 26, p. 1-18, 2022Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mtchem.2022.101095. Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Borges, M. H. R., Nagay, B. E., Costa, R. C., Sacramento, C. M., Ruiz, K. G., Landers, R., et al. (2022). A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications. Materials Today Chemistry, 26, 1-18. doi:10.1016/j.mtchem.2022.101095
NLM
Borges MHR, Nagay BE, Costa RC, Sacramento CM, Ruiz KG, Landers R, Van den Beucken JJJP, Fortulan CA, Rangel EC, Cruz NC da, Barão VAR. A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications [Internet]. Materials Today Chemistry. 2022 ; 26 1-18.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mtchem.2022.101095
Vancouver
Borges MHR, Nagay BE, Costa RC, Sacramento CM, Ruiz KG, Landers R, Van den Beucken JJJP, Fortulan CA, Rangel EC, Cruz NC da, Barão VAR. A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications [Internet]. Materials Today Chemistry. 2022 ; 26 1-18.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mtchem.2022.101095
Artigo de periodico
Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo ; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ELETRODO, LÍTIO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, v. 162, n. 1, p. 679-684, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011. Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, 162( 1), 679-684. doi:10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Artigo de periodico
Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films (2006)
Souza, E. A.; Landers, R.; Tabacniks, Manfredo ; Cardoso, L. P.; Gorenstein, A.
Source: Electrochimica Acta. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ÍONS, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, v. 51, n. 26, p. 5885-5891, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024. Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Souza, E. A., Landers, R., Tabacniks, M., Cardoso, L. P., & Gorenstein, A. (2006). Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, 51( 26), 5885-5891. doi:10.1016/j.electacta.2006.03.024
NLM
Souza EA, Landers R, Tabacniks M, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024
Vancouver
Souza EA, Landers R, Tabacniks M, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024
Artigo de periodico
Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, ÍONS, LÍTIO, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, v. 155, n. 2, p. 358-36321 de abril de 2006, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014. Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, 155( 2), 358-36321 de abril de 2006. doi:10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Artigo de periodico
Influence of the deposition method on the morphology and elemental composition of Sn'O IND.2' films for gas sensing: atomic force and X-ray photoemission spectroscopy analysis (2003)
Bittencourt, C.; Llobet, E; Silva, Marcelo de Assumpção Pereira da ; Landers, R.; Nieto, L.; Vicaro, K. O.; Sueiras, J. E.; Calderer, J.; Correig, X.
Source: Sensors and Actuators B. Unidade: IFSC
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
BITTENCOURT, C. et al. Influence of the deposition method on the morphology and elemental composition of Sn'O IND.2' films for gas sensing: atomic force and X-ray photoemission spectroscopy analysis. Sensors and Actuators B, v. 92, n. 1/2, p. 67-72, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00011-x. Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Bittencourt, C., Llobet, E., Silva, M. de A. P. da, Landers, R., Nieto, L., Vicaro, K. O., et al. (2003). Influence of the deposition method on the morphology and elemental composition of Sn'O IND.2' films for gas sensing: atomic force and X-ray photoemission spectroscopy analysis. Sensors and Actuators B, 92( 1/2), 67-72. doi:10.1016/s0925-4005(03)00011-x
NLM
Bittencourt C, Llobet E, Silva M de AP da, Landers R, Nieto L, Vicaro KO, Sueiras JE, Calderer J, Correig X. Influence of the deposition method on the morphology and elemental composition of Sn'O IND.2' films for gas sensing: atomic force and X-ray photoemission spectroscopy analysis [Internet]. Sensors and Actuators B. 2003 ; 92( 1/2): 67-72.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00011-x
Vancouver
Bittencourt C, Llobet E, Silva M de AP da, Landers R, Nieto L, Vicaro KO, Sueiras JE, Calderer J, Correig X. Influence of the deposition method on the morphology and elemental composition of Sn'O IND.2' films for gas sensing: atomic force and X-ray photoemission spectroscopy analysis [Internet]. Sensors and Actuators B. 2003 ; 92( 1/2): 67-72.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00011-x
Trabalho de evento-resumo
XPS analysis of electronic density of iron tetrazamacrocycle through Fe 2p binding energies on the 3-Imidazolilpropyl- modified surface of oxidized n-Si (100) (2003)
Andresa, Juliana Salvador; Moreira, L. M.; Magalhães, J. L.; Gonzalez, E. P.; Landers, R.; Rodrigues Filho, Ubirajara Pereira
Source: Book of abstracts. Conference titles: European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis. Unidade: IQSC
Assunto: QUÍMICA
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ABNT
ANDRESA, Juliana Salvador et al. XPS analysis of electronic density of iron tetrazamacrocycle through Fe 2p binding energies on the 3-Imidazolilpropyl- modified surface of oxidized n-Si (100). 2003, Anais.. Berlin: Instituto de Química de São Carlos, Universidade de São Paulo, 2003. . Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Andresa, J. S., Moreira, L. M., Magalhães, J. L., Gonzalez, E. P., Landers, R., & Rodrigues Filho, U. P. (2003). XPS analysis of electronic density of iron tetrazamacrocycle through Fe 2p binding energies on the 3-Imidazolilpropyl- modified surface of oxidized n-Si (100). In Book of abstracts. Berlin: Instituto de Química de São Carlos, Universidade de São Paulo.
NLM
Andresa JS, Moreira LM, Magalhães JL, Gonzalez EP, Landers R, Rodrigues Filho UP. XPS analysis of electronic density of iron tetrazamacrocycle through Fe 2p binding energies on the 3-Imidazolilpropyl- modified surface of oxidized n-Si (100). Book of abstracts. 2003 ;[citado 2024 jun. 11 ]
Vancouver
Andresa JS, Moreira LM, Magalhães JL, Gonzalez EP, Landers R, Rodrigues Filho UP. XPS analysis of electronic density of iron tetrazamacrocycle through Fe 2p binding energies on the 3-Imidazolilpropyl- modified surface of oxidized n-Si (100). Book of abstracts. 2003 ;[citado 2024 jun. 11 ]
Trabalho de evento-resumo periodico
Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering (2001)
Urbano, Alexandre ; Ferreira, F. F. ; Castro, S. C. de; Landers, R.; Fantini, Marcia ; Gorenstein, A.
Source: Electrochimica Acta. Conference titles: International Meeting on Electrochromism (IME-4). Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, LÍTIO, NÍQUEL, ELETROQUÍMICA, ELETRÓLITOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
URBANO, Alexandre et al. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta. Amsterdam: Elsevier. Disponível em: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4. Acesso em: 11 jun. 2024. , 2001
APA
Urbano, A., Ferreira, F. F., Castro, S. C. de, Landers, R., Fantini, M., & Gorenstein, A. (2001). Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta. Amsterdam: Elsevier. doi:10.1016/S0013-4686(01)00395-4
NLM
Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini M, Gorenstein A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering [Internet]. Electrochimica Acta. 2001 ; 46( 13-14): 2269-2273.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4
Vancouver
Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini M, Gorenstein A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering [Internet]. Electrochimica Acta. 2001 ; 46( 13-14): 2269-2273.[citado 2024 jun. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4
Trabalho de evento-resumo
Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h (1992)
Velasquez, E L Z; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Páez Carreño, Marcelo Nelson ; Pereyra, Inés ; Takahashi, H.; Landers, R.
Source: Programa e Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada. Unidades: IF, EP
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
VELASQUEZ, E L Z et al. Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. 1992, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica, 1992. . Acesso em: 11 jun. 2024.
APA
Velasquez, E. L. Z., Fantini, M. C. de A., Páez Carreño, M. N., Pereyra, I., Takahashi, H., & Landers, R. (1992). Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. In Programa e Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica.
NLM
Velasquez ELZ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Takahashi H, Landers R. Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. Programa e Resumos. 1992 ;[citado 2024 jun. 11 ]
Vancouver
Velasquez ELZ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Takahashi H, Landers R. Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. Programa e Resumos. 1992 ;[citado 2024 jun. 11 ]

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